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產品簡介
致茂Chroma 7940 晶圓檢測系統可同時檢測正反兩面晶圓大可檢測6吋擴膜晶圓(檢測區域達8吋范圍 )可因應不同產業的晶粒更換或新增檢測項目上片后晶圓自動對位機制
| 品牌 | Chroma/致茂 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池 |
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致茂Chroma 7940 晶圓檢測系統
主要特色:
Chroma 7940晶圓檢測系統為自動化切割后晶粒 檢測設備,使用*打光技術,可以清楚的辨 識晶粒的外觀瑕疵。結合不同的光源角度、亮度 及取像模式,使得7940可以適用于LED、雷射二 極體及光敏二極體等產業。
由于使用高速相機以及自行開發之檢測演算法, 7940可以在3分鐘內檢測完6吋LED晶圓,換算 為單顆處理時間為15msec。7940同時也提供了 自動對焦與翹曲補償功能,以克服晶圓薄膜的 翹曲與載盤的水平問題。7940可配置2種不同倍 率,使用者可依晶?;蜩Υ贸叽邕x擇檢測倍率。 系統搭配的小解析度為0.5um,一般來說,可 以檢測1.5um左右的瑕疵尺寸。
系統功能
在擴膜之后,晶粒或晶圓可能會產生不規則的 排列,7940也提供了搜尋及排列功能以轉正晶 圓。此外,7940擁有人性化的使用介面可降低 學習曲線,所有的必要資訊,如晶圓分布,瑕疵 區域,檢測參數及結果,均可清楚地透過使用者 介面(UI)呈現。
瑕疵資料分析
所有的檢測結果均會被記錄下來,而不僅只是 良品/不良品的結果。這有助于找出一組蕞佳參 數,達到漏判與誤判的平衡點。提供瑕疵原始原 始資料亦有助于分析瑕疵產生之趨勢,并回饋給 制程人員進行改善。
Applications
| LED Top Side Defects | |
| - Pad Defect - Pad Residue - ITO Peeling - Finger Broken Front side image with co-axis light | - Mesa Abnormality - Epi Defect - Chipping - Chip Residue Front side image with ring light |
| LED Back Side Defects | |
| - Dicing Abnormality - Pad Bump Back side image with co-axis light | - Chipping - Metal Lack Back side image with ring light |
| VCSEL Top Side Defercts | |
| - Pad Defect - Pad Scratch - Emitting Area Defect - Peeling Front side image with co-axis light | - Mesa Abnormality - Epi Defect - Chipping - Chip Residue Front side image with ring light |
| VCSEL Back Side Defects | |
| - Dicing Abnormality - Pad Bump - Chipping - Metal Lack Back side image with ring light | |
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| Model | Description | 詢價 |
|---|---|---|
| 7940 | 晶圓檢測系統 |
致茂Chroma 7940 晶圓檢測系統